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3d ic设计 文章 进入3d ic设计技术社区

闪迪提议HBF取代HBM,在边缘实现 AI

  • Sandisk Corp. 正在寻求 3D-NAND 闪存的创新,该公司声称该创新可以取代基于 DRAM 的 HBM(高带宽内存)用于 AI 推理应用。当 Sandisk 于 2025 年 2 月从数据存储公司 Western Digital 分拆出来时,该公司表示,它打算在提供闪存产品的同时追求新兴颠覆性内存技术的开发。在 2 月 11 日举行的 Sandisk 投资者日上,即分拆前不久,即将上任的内存技术高级副总裁 Alper Ilkbahar 介绍了高带宽闪存以及他称之为 3D 矩阵内存的东西。在同
  • 关键字: Sandisk  3D-NAND  

IC设计业开始出现明显两极分化

  • 根据TrendForce最新研究,2024年全球IC设计前十大业者,台厂联发科、瑞昱、联咏再度上榜; 得益于AI热潮的推进,英伟达不意外成为IC设计产业霸主,更独占前十大业者总营收的50%。TrendForce分析,AI所需高端芯片制造需要庞大资本投入和先进技术,使得市场进入门槛极高,导致产业开始出现明显寡占现象; 于2024年数据指出,前五大IC设计业者的营收合计占前十大业者总营收的90%以上,代表市场资源与技术优势正向少数领先企业集中。英伟达是AI浪潮最大受惠者,去年合并营收高达1,243亿美元,占前
  • 关键字: TrendForce  IC设计  英伟达  

通过左移DRC设计规则检查方法降低IC设计复杂性

  • 最成功的半导体公司都知道,集成电路 (IC) 设计日益复杂,这让我们的传统设计规则检查 (DRC) 方法不堪重负。迭代的“通过校正构建”方法适用于更简单的自定义布局,但现在却造成了大量的运行时和资源瓶颈,阻碍了设计团队有效验证其高级设计和满足紧迫的上市时间目标的能力。为了克服这种设计复杂性,主要半导体公司不断从其生态系统合作伙伴那里寻找有效的工具。西门子 EDA 是一家大型电子设计自动化 (EDA) 公司,它提供了一种新的、强大的左移验证策略,他们对其进行了评估并宣布它改变了他们早期设计阶段的游
  • 关键字: 左移DRC  设计规则  IC设计  复杂性  

新型高密度、高带宽3D DRAM问世

  • 3D DRAM 将成为未来内存市场的重要竞争者。
  • 关键字: 3D DRAM  

紫光国微2.5D/3D先进封装项目将择机启动

  • 日前,紫光国微在投资者互动平台透露,公司在无锡建设的高可靠性芯片封装测试项目已于2024年6月产线通线,现正在推动量产产品的上量和更多新产品的导入工作,2.5D/3D等先进封装将会根据产线运行情况择机启动。据了解,无锡紫光集电高可靠性芯片封装测试项目是紫光集团在芯片制造领域的重点布局项目,也是紫光国微在高可靠芯片领域的重要产业链延伸。拟建设小批量、多品种智能信息高质量可靠性标准塑料封装和陶瓷封装生产线,对保障高可靠芯片的产业链稳定和安全具有重要作用。
  • 关键字: 紫光国微  2D/3D  芯片封装  

国际最新研究将3D NAND深孔蚀刻速度提升一倍

  • 据媒体报道,近日,研究人员发现了一种使用先进的等离子工艺在3D NAND闪存中蚀刻深孔的更快、更高效的方法。通过调整化学成分,将蚀刻速度提高了一倍,提高了精度,为更密集、更大容量的内存存储奠定了基础。这项研究是由来自Lam Research、科罗拉多大学博尔德分校和美国能源部普林斯顿等离子体物理实验室(PPPL)的科学家通过模拟和实验进行的。根据报道,前PPPL研究员、现就职于Lam Research的Yuri Barsukov表示,使用等离子体中发现的带电粒子是创建微电子学所需的非常小但很深的圆孔的最简
  • 关键字: 3D NAND  深孔蚀刻  

李飞飞对计算机视觉的愿景:World Labs 正为机器提供 3D 空间智能

  • 斯坦福大学教授李飞飞已经在 AI 历史上赢得了自己的地位。她在深度学习革命中发挥了重要作用,多年来努力创建 ImageNet 数据集和竞赛,挑战 AI 系统识别 1000 个类别的物体和动物。2012 年,一个名为 AlexNet 的神经网络在 AI 研究界引起了震动,它的性能远远超过了所有其他类型的模型,并赢得了 ImageNet 比赛。从那时起,神经网络开始腾飞,由互联网上现在提供的大量免费训练数据和提供前所未有的计算能力的 GPU 提供支持。在 ImageNe
  • 关键字: 李飞飞对计算机视觉的愿景:World Labs 正在为机器提供 3D 空间智能  

谷歌DeepMind发布Genie 2模型 可一键生成超逼真3D互动世界

  • 12月5日消息,美国当地时间周三,谷歌旗下人工智能研究机构DeepMind推出了一款新模型,能够创造出“无穷无尽”且各具特色的3D世界。这款模型名为Genie 2,是DeepMind在今年早些时候推出的Genie模型的升级版。仅凭一张图片和一段文字描述,例如“一个可爱的机器人置身于茂密的森林中”,Genie 2就能构建出一个交互式的实时场景。在这方面,它与李飞飞创立的World Labs以及以色列新兴企业Decart所开发的模型有着异曲同工之妙。DeepMind宣称,Genie 2能够生成“丰富多样的3D
  • 关键字: 谷歌  DeepMind  Genie 2  模型  3D  互动世界  

Teledyne推出用于在线3D测量和检测的Z-Trak 3D Apps Studio软件工具

  • Teledyne DALSA推出在线3D机器视觉应用开发的软件工具Z-Trak™ 3D Apps Studio。该工具旨在与Teledyne DALSA的Z-Trak系列激光扫描仪配合使用,可简化生产线上的3D测量和检测任务。Z-Trak 3D Apps Studio能够处理具有不同表面类型、尺寸和几何特征的物体的3D扫描,是电动汽车(电动汽车电池、电机定子等)、汽车、电子、半导体、包装、物流、金属制造、木材等众多行业工厂自动化应用的理想之选。Z-Trak 3D Apps Studio具有简化的工具,用于
  • 关键字: Teledyne  3D测量  Z-Trak 3D Apps Studio  

三星大幅减少未来生产NAND所需光刻胶使用量

  • 据韩媒报道,称三星电子在生产 3D NAND 闪存方面取得重大突破,在其中光刻工艺中大幅缩减光刻胶(PR)用量,降幅达到此前用量的一半。报道称,此前每层涂层需要7-8cc的光刻胶,而三星通过精确控制涂布机的转速(rpm)以及优化PR涂层后的蚀刻工艺,现在只需4-4.5cc。此外,三星使用了更厚的氟化氪(KrF)光刻胶,通常情况下一次工艺形成1层涂层,而使用更厚的光刻胶,三星可以一次形成多个层,从而提高工艺效率,但同时也有均匀性问题。东进半导体一直是三星KrF光刻胶的独家供应商,为三星第7代(11微米)和第
  • 关键字: 三星  光刻胶  3D NAND  

台积电OIP推3D IC设计新标准

  • 台积电OIP(开放创新平台)于美西当地时间25日展开,除表扬包括力旺、M31在内之业者外,更计划推出3Dblox新标准,进一步加速3D IC生态系统创新,并提高EDA工具的通用性。 台积电设计构建管理处负责人Dan Kochpatcharin表示,将与OIP合作伙伴一同突破3D IC架构中的物理挑战,帮助共同客户利用最新的TSMC 3DFabric技术实现优化的设计。台积电OIP生态系统论坛今年由北美站起跑,与设计合作伙伴及客户共同探讨如何通过更深层次的合作,推动AI芯片设计的创新。 Dan Kochpa
  • 关键字: 台积电  OIP  3D IC设计  

英特尔传分拆IC设计与晶圆代工 可能对台积电不利

  • 英特尔公司(Intel Corporation)8月1日公布新一季财报后,股价出现崩盘式狂跌,面临存亡危机。美国财经媒体近期引述知情人士说法,英特尔公司为了挽回局面,正在和投行讨论各种可行方案,其中甚至包括分拆IC设计与晶圆代工部门。但有台湾网友对此表示,美国政府应无法让台积电加大对晶圆代工的市占率。根据美国财经媒体报导,有知情人士表示,英特尔正处于56年历史中最艰难的时期,目前正在与高盛、摩根史丹利等投行讨论诸多潜在解决方案,分拆IC设计与晶圆代工也列入选项当中。据了解,目前各方案都尚在初期讨论阶段,还
  • 关键字: 英特尔  IC设计  晶圆代工  台积电  

内存制造技术再创新,大厂新招数呼之欲出

  • 制造HBM难,制造3D DRAM更难。
  • 关键字: HBM  3D DRAM  

铠侠公布蓝图:2027年实现1000层3D NAND堆叠

  • 近日,据媒体报道,日本存储芯片厂商铠侠公布了3D NAND闪存发展蓝图,目标2027年实现1000层堆叠。铠侠表示,自2014年以来,3D NAND闪存的层数经历了显著的增长,从初期的24层迅速攀升至2022年的238层,短短8年间实现了惊人的10倍增长。铠侠正是基于这种每年平均1.33倍的增长速度,预测到2027年达到1000层堆叠的目标是完全可行的。而这一规划较此前公布的时间早了近3年,据日本媒体今年4月报道,铠侠CTO宫岛英史在71届日本应用物理学会春季学术演讲会上表示,公司计划于2030至2031
  • 关键字: 铠侠  3D NAND堆叠  

SK海力士5层堆叠3D DRAM新突破:良品率已达56.1%

  • 6月25日消息,据媒体报道,SK海力士在近期于美国夏威夷举行的VLSI 2024峰会上,重磅发布了关于3D DRAM技术的最新研究成果,展示了其在该领域的深厚实力与持续创新。据最新消息,SK海力士在3D DRAM技术的研发上取得了显著进展,并首次详细公布了其开发的具体成果和特性。公司正全力加速这一前沿技术的开发,并已取得重大突破。SK海力士透露,目前其5层堆叠的3D DRAM良品率已高达56.1%,这一数据意味着在单个测试晶圆上,能够成功制造出约1000个3D DRAM单元,其中超过一半(即561个)为良
  • 关键字: SK海力士  3D DRAM  
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3d ic设计介绍

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